Photo-Trimethyl-Lock

Chemischer Name: 3-(2-Nitroveratryl-4,6-dimethylphenyl)-3-methylbutyric acid

  • Art-Nr.:RL-2970
  • CAS Nr.:2095134-25-9
  • Formel:C22H27NO7
  • Lagertemperatur:2-8°C
  • Molare Masse:417,45 g/mol

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The trimethyl-lock concept is a new methodology to mask and inactivate active compounds and activate them by specific conditions. The traceless release of compounds protected with this TML derivative can be triggered by photolytic cleavage.

A wide range of applications already has been published, like prodrug and drug release, use as self immolative spacer or in biomolecular imaging.

references

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